제이에스엠티

온라인문의

온라인문의글을 남겨주세요.
신속하게 답변해 드리겠습니다.

CUSTOMER CENTER

TEL

031-366-2197

FAX

031-366-2198

설계 / 공정 / 해석

Design

Photo-Etching Metal Parts
Metal Mask (Before Tension)
- Photo-Etching Bias design
MFA (After Tension)
- Tension Properties / Shape

Processing & Analysis

High Precision Tolerance
-Vertical-Rotation Etching
MFA(Mask Frame Assembly)
-FEA(Finite Element Analysis)
-MFA Stress Compensation

제조기술

Metal Parts

-INVAR / SUS
-400 * 500
- H/E <30% @T
- Size Tol. ±20㎛

Frames

- Size 3,000 x 2,000 mm
- Size Precision ± 50 ㎛
- Thickness ± 25 ㎛
- Position ± 30 ㎛
- Flatness 30 ㎛

MFA (Metal Mask Assembly)

- OLED G2F or 12"-Wafer"
- PA ±25㎛
- Z-axis Sagging TBD

지식재산권 및 국책현황

특허 : 등록 1건

- 박막 공정용 오픈마스크 시트 및 제조 방법 : 제 10-2235244호

특허 : 출원 7건

- 회전형 수직 습식 에칭장치 : 10-2020-0104992
- 박막 증착용 마스크프레임 조립체 : 10-2020-0174335 / 10-2020-0174336
- 박막 증착용 가변 마스크 프레임 조립체 : 10-2021-0004365
- 박막 증착용 가이드 마스크 프레임 조립체 : 10-2021-0021803 / 10-2021-0021804

국책

- OLEDoS(OLED on Silicon) 용 고정밀 Metal Mask 제조 기술 개발
- 한국디스플레이산업협회//한국디스플레이연구조합 "2021 OLED 공정장비 핵심부분품 성능평가 지원사업" 선정

독창성 / 차별화

1 Step H/E Depth Control

기존 수평 에칭
- 단면 제어 X
- 2Step 제안

신규 에칭 공법
- 단면 제어 O : 고품질
- 1Step : 고수율

Total Solution Service

Frame / Mask / Tension

보유기술 1 페이지